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銅鎳鉻電鍍加工工藝配方
傳統
1鉻酐(CrO) 220~250g/l
2硫酸根(SO42-) 2.2~2.5g/l
3三價鉻(Cr+) 2~5g/l
鍍液的主要成分為:硫酸與鉻酸酐1∶100(質量比)。
該工藝目前在國內使用為普遍,其優點是鍍液成分簡單
二.銅鎳鉻電鍍加工正常工藝流程
零件→吹濕砂→堿性除油→熱水洗→冷水洗→活化→冷水洗→預熱→反向腐蝕→鍍鉻→除氫。
銅鎳鉻電鍍加工后必須進行驅氫處理
鍍硬鉻時滲氫問題比較嚴重, 這是因為鍍鉻時大部分電流消耗在氫的析出上, 而氫在析出時, 很容易擴散到鉻層和基體金屬中, 這樣會使得鍍件表面脆性增加, 疲勞強度降低。因此,鍍銀, 鍍鉻后必須進行驅氫處理, 即鍍件在200~ 220e 環境下熱處理3h左右。驅氫處理可除去鉻層和基體中的大部分氫, 由此降低了鍍件表面的脆性但不會影響其硬度。
電鍍加工層厚度控制方法
1.原理:每種金屬電鍍加工時的厚度與電流密度和電鍍時間有關。
2.方法:首先要計算出每種工件的面積,然后根據電鍍工藝要求確定每個工件的電流密度。例如:比亞迪的插頭射頻端口面積約為0.13dm2,鍍錫工藝要求電流密度為1.5A/dm2,因此每個工件的施鍍電流約0.20A。如每掛掛72個,則每掛的施鍍電流應為15A。確定了電流以后,鍍銀多少錢,厚度就只跟時間有關了,根據電化學計算,鍍銀加工,當電流密度為1.5A/dm2時,電鍍1u的錫鍍層約需要1.5分鐘,如要求鍍層厚度4u,則需鍍4.5分鐘。
3、上面第2點提到的厚度是鍍層的平均厚度,因為工件有凹凸,鍍銀價格,因此每個地方的電流密度也不盡相同,導致不同部位的厚度也不一樣,工件越復雜,厚度差也越大。減少厚度差主要有以下這些方法:
A. 鍍液中添加能減少厚度差的添加劑;
B. 盡量用較小的電流電鍍;采用陰極移動;
C. 在工件的高電流區采用適當的屏蔽措施等。
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